K&F Concept K&F 43MM Nano-X B270 MCUV filtr, HD, voděodolný, proti poškrábání,...
Kód: AVY-KF01.981Detailní popis produktu
StránkaFiltr K&F 43mm Nano-X B270 MCUV nabízíHD optická čistota, 28vrstvá vícevrstvá vrstva a vynikající UV ochrana. Vyrobeno z Japonské optické sklo, tominimalizuje odlesky, zvyšuje kontrast, achrání váš objektiv před poškrábáním, prachem a otisky prstů.
Vylepšete svou fotografii pomocíFiltr K&F 43mm Nano-X B270 MCUV, určené problokovat škodlivé UV záření,snížit zákal, azlepšit kontrast obrazu. Vyrobeno s chemicky vylepšené japonské optické sklo, toto UV filtr s vysokou hustotou je4x silnější než standardní filtry, což zajišťuje odolnost a optickou přesnost.
s 28 vícevrstvých nátěrů NANOTEC, tento filtr je hydrofobní, odolné proti poškrábání a antireflexníumožňující99,6% propustnost světla avěrná přesnost barev. Stránkaultra tenký 3,3mm rám zabraňuje vinětace i na teleobjektivech, zatímco jeho technologie oboustranného leštění zachovává ostrost od okraje po okraj.
Nezbytný doplněk pro profesionální a nadšené fotografy, toto vysokovýkonný filtr MCUV poskytujeochrana objektivu a zvýšená kvalita obrazu v jakémkoli prostředí.
Klíčové vlastnosti:
- UV ochrana: Bloky škodlivé UV paprsky, snížení zákalu pro jasné obrázky s vysokým kontrastem.
- Japonské optické sklo: Sklo B270 s vysokou hustotou, chemicky vylepšený pro 4x větší pevnost.
- Vícevrstvý nátěr: 28-vrstvý nátěr NANOTEC odpuzuje voda, olej, škrábance a prach.
- Ultra tenký rám: 3,3 mm rám z hliníkové slitiny zabraňuje vinětace na teleobjektivech.
- Vysoká propustnost světla: 99,6% propustnost světla zachovává ostrost obrazu a věrné barvy.
Chraňte své objektiv fotoaparátu a zlepšit kvalitu obrazu pomocí Filtr K&F 43mm Nano-X B270 MCUV– nezbytný doplněk výbavy každého fotografa.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | Ukončená výroba |
|---|---|
| EAN: | 6936069227246 |
| Položka byla vyprodána… | |
Diskuze
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
K&F Concept – od jednoho produktu k jednomu z největších katalogů fotografického příslušenství na světě
K&F Concept patří mezi značky, které místo úzkého zaměření na jednu kategorii zvolily cestu komplexního řešení pro fotografy – od stativu přes filtr až po tašku, do které se to všechno vejde.
Založení v Šen-čenu
Firma vznikla v roce 2011 (některé zdroje uvádějí rok 2012) v čínském Šen-čenu – městě, kde sídlí i mnoho dalších značek fotografické techniky z naší nabídky (Tilta, SmallRig, PGYTECH). K&F Concept se od začátku profilovala jako „one-stop“ dodavatel kompletních fotografických řešení – ne jako výrobce jednoho typu produktu, ale širokého spektra doplňků pokrývajících prakticky celou výbavu fotografa.
Vlastní vývoj a více než 200 patentů
Značka si postupně vybudovala silné inženýrské zázemí – dnes eviduje více než 200 patentů ve vlastním portfoliu a za své produkty získala mezinárodní designová ocenění, mimo jiné Red Dot a Digital Camera Grand Prix, což u čínského výrobce příslušenství není běžné.
Sortiment
V nabídce K&F Concept najdete stativy napříč cenovými i váhovými kategoriemi, ND a CPL filtry, tašky a batohy z řady UrbanWander, elektrické ofukovače na čištění senzorů a objektivů, adaptéry objektivů i drobné doplňky – jde o jeden z nejrozsáhlejších katalogů v celém e-shopu.
Zajímavost na závěr
K&F Concept je příkladem značky, která místo specializace na jednu věc zvolila opačnou strategii – pokrýt co nejvíce potřeb fotografa pod jednou střechou a podložit to více než 200 vlastními patenty a mezinárodně uznávanými designovými oceněními.
👉 Nevíte si rady s výběrem? Napište nám, rádi poradíme.
📞 +421 904 889 742 • ✉️ info@dronarna.cz • 💬 Live chat na e-shopu