K&F Concept Filtr K&F 46MM CPL, mosazný rám NANO-X Pro
Kód: AVY-KF01.2307Detailní popis produktu
Polarizační filtr (CPL) pro odstranění odrazů od nekovových povrchů, jako je voda a sklo, zlepšuje barvy a kontrast, zejména při fotografování bílých oblaků a modré oblohy. Rám je vyroben z mosazi s ultratenkým designem. Integrované CNC lisování se vyznačuje tvrdostí i flexibilitou, hladkou a odolnou instalací, přesností zpracování na úrovni 0,01 mm, rám je vysoce přiléhavý a pevný k objektivu a při instalaci na širokoúhlé a teleobjektivy nedochází k vinětaci.
- Zlepšení barev a kontrastu— Polarizační filtr (CPL) k odstranění odrazů od nekovových povrchů, jako je voda a sklo, k vylepšení barev a kontrastu, zejména při fotografování bílých oblaků a modré oblohy.
- Ultratenký mosazný rám— Rám je vyroben z mosazi s ultratenkým designem. CNC integrované lišty se vyznačují tvrdostí i flexibilitou, hladkou a odolnou instalací, přesností zpracování na úrovni 0,01 mm, rám je vysoce přiléhavý a pevný k objektivu a při instalaci na širokoúhlé a teleobjektivy nedochází k vinětaci.
- Ultra vysoká propustnost světla— Čočka využívá exkluzivní technologii povrchové úpravy od společnosti KF Concept a její odrazivost je jen 0,15 % a zajišťuje propustnost světla 45 %. Zaručuje vysokou propustnost, která účinně redukuje odlesky a oslnění a obnovuje skutečnou barvu.
- 36 Vícevrstvý povlak— Obě skla s nanometrovými vrstvami, voděodolná a odolná vůči poškrábání, zajišťují filtr s propustností 45 % a odstraňují 99,2 % polarizačního světla bez vlivu na kvalitu obrazu.
- 10letá záruka— Každý filtr má jedinečný identifikační kód, který umožňuje 10letou záruku na výměnu. Vybaven ručně vyrobenou filtrační kapsou z pravé kůže K&F Concept, speciálně navrženou pro fotografy.


Doplňkové parametry
| Kategorie: | Ukončená výroba |
|---|---|
| EAN: | KF01.2307 |
| Položka byla vyprodána… | |
Diskuze
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
K&F Concept – od jednoho produktu k jednomu z největších katalogů fotografického příslušenství na světě
K&F Concept patří mezi značky, které místo úzkého zaměření na jednu kategorii zvolily cestu komplexního řešení pro fotografy – od stativu přes filtr až po tašku, do které se to všechno vejde.
Založení v Šen-čenu
Firma vznikla v roce 2011 (některé zdroje uvádějí rok 2012) v čínském Šen-čenu – městě, kde sídlí i mnoho dalších značek fotografické techniky z naší nabídky (Tilta, SmallRig, PGYTECH). K&F Concept se od začátku profilovala jako „one-stop“ dodavatel kompletních fotografických řešení – ne jako výrobce jednoho typu produktu, ale širokého spektra doplňků pokrývajících prakticky celou výbavu fotografa.
Vlastní vývoj a více než 200 patentů
Značka si postupně vybudovala silné inženýrské zázemí – dnes eviduje více než 200 patentů ve vlastním portfoliu a za své produkty získala mezinárodní designová ocenění, mimo jiné Red Dot a Digital Camera Grand Prix, což u čínského výrobce příslušenství není běžné.
Sortiment
V nabídce K&F Concept najdete stativy napříč cenovými i váhovými kategoriemi, ND a CPL filtry, tašky a batohy z řady UrbanWander, elektrické ofukovače na čištění senzorů a objektivů, adaptéry objektivů i drobné doplňky – jde o jeden z nejrozsáhlejších katalogů v celém e-shopu.
Zajímavost na závěr
K&F Concept je příkladem značky, která místo specializace na jednu věc zvolila opačnou strategii – pokrýt co nejvíce potřeb fotografa pod jednou střechou a podložit to více než 200 vlastními patenty a mezinárodně uznávanými designovými oceněními.
👉 Nevíte si rady s výběrem? Napište nám, rádi poradíme.
📞 +421 904 889 742 • ✉️ info@dronarna.cz • 💬 Live chat na e-shopu




