K&F Concept Filtr K&F 46MM CPL, mosazný rám NANO-X Pro

Kód: AVY-KF01.2307
Neohodnoceno
2 472 Kč 2 043 Kč bez DPH Měrná cena:
Prodej skončil
Možnosti doručení
Položka byla vyprodána…

Detailní informace

Detailní popis produktu

Polarizační filtr (CPL) pro odstranění odrazů od nekovových povrchů, jako je voda a sklo, zlepšuje barvy a kontrast, zejména při fotografování bílých oblaků a modré oblohy. Rám je vyroben z mosazi s ultratenkým designem. Integrované CNC lisování se vyznačuje tvrdostí i flexibilitou, hladkou a odolnou instalací, přesností zpracování na úrovni 0,01 mm, rám je vysoce přiléhavý a pevný k objektivu a při instalaci na širokoúhlé a teleobjektivy nedochází k vinětaci.

  • Zlepšení barev a kontrastu— Polarizační filtr (CPL) k odstranění odrazů od nekovových povrchů, jako je voda a sklo, k vylepšení barev a kontrastu, zejména při fotografování bílých oblaků a modré oblohy.
  • Ultratenký mosazný rám— Rám je vyroben z mosazi s ultratenkým designem. CNC integrované lišty se vyznačují tvrdostí i flexibilitou, hladkou a odolnou instalací, přesností zpracování na úrovni 0,01 mm, rám je vysoce přiléhavý a pevný k objektivu a při instalaci na širokoúhlé a teleobjektivy nedochází k vinětaci.
  • Ultra vysoká propustnost světla— Čočka využívá exkluzivní technologii povrchové úpravy od společnosti KF Concept a její odrazivost je jen 0,15 % a zajišťuje propustnost světla 45 %. Zaručuje vysokou propustnost, která účinně redukuje odlesky a oslnění a obnovuje skutečnou barvu.
  • 36 Vícevrstvý povlak— Obě skla s nanometrovými vrstvami, voděodolná a odolná vůči poškrábání, zajišťují filtr s propustností 45 % a odstraňují 99,2 % polarizačního světla bez vlivu na kvalitu obrazu.
  • 10letá záruka— Každý filtr má jedinečný identifikační kód, který umožňuje 10letou záruku na výměnu. Vybaven ručně vyrobenou filtrační kapsou z pravé kůže K&F Concept, speciálně navrženou pro fotografy.
  • 1
    1
     
     
     
     

Doplňkové parametry

Kategorie: Ukončená výroba
EAN: KF01.2307
Položka byla vyprodána…

Diskuze

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole

Bezpečnostní kontrola

Vložením komentáře souhlasíte s podmínkami ochrany osobních údajů

K&F Concept – od jednoho produktu k jednomu z největších katalogů fotografického příslušenství na světě

K&F Concept patří mezi značky, které místo úzkého zaměření na jednu kategorii zvolily cestu komplexního řešení pro fotografy – od stativu přes filtr až po tašku, do které se to všechno vejde.

Založení v Šen-čenu

Firma vznikla v roce 2011 (některé zdroje uvádějí rok 2012) v čínském Šen-čenu – městě, kde sídlí i mnoho dalších značek fotografické techniky z naší nabídky (Tilta, SmallRig, PGYTECH). K&F Concept se od začátku profilovala jako „one-stop“ dodavatel kompletních fotografických řešení – ne jako výrobce jednoho typu produktu, ale širokého spektra doplňků pokrývajících prakticky celou výbavu fotografa.

Vlastní vývoj a více než 200 patentů

Značka si postupně vybudovala silné inženýrské zázemí – dnes eviduje více než 200 patentů ve vlastním portfoliu a za své produkty získala mezinárodní designová ocenění, mimo jiné Red Dot a Digital Camera Grand Prix, což u čínského výrobce příslušenství není běžné.

Sortiment

V nabídce K&F Concept najdete stativy napříč cenovými i váhovými kategoriemi, ND a CPL filtry, tašky a batohy z řady UrbanWander, elektrické ofukovače na čištění senzorů a objektivů, adaptéry objektivů i drobné doplňky – jde o jeden z nejrozsáhlejších katalogů v celém e-shopu.

Zajímavost na závěr

K&F Concept je příkladem značky, která místo specializace na jednu věc zvolila opačnou strategii – pokrýt co nejvíce potřeb fotografa pod jednou střechou a podložit to více než 200 vlastními patenty a mezinárodně uznávanými designovými oceněními.

👉 Nevíte si rady s výběrem? Napište nám, rádi poradíme.
📞 +421 904 889 742 • ✉️ info@dronarna.cz • 💬 Live chat na e-shopu